Leave Your Message

HD500 - Thiết bị phủ ion composite hoàn toàn mới thuộc dòng HD.

Máy HD500 được xây dựng dựa trên nền tảng công nghệ phủ composite hoàn toàn mới của Huasheng, cho phép tạo ra một khung quy trình composite tích hợp các quy trình lắng đọng phún xạ ion hóa cao và quy trình hồ quang. Các lớp màng được chế tạo thông qua công nghệ này thể hiện tính linh hoạt cao hơn. Đặc biệt, chúng mang lại những ưu điểm vượt trội khi xử lý các vật liệu khó gia công, bao gồm thép không gỉ và hợp kim titan. Điều này dẫn đến sự gia tăng đáng kể tuổi thọ sử dụng.

Hơn nữa, công nghệ này mang lại nhiều tiềm năng hơn cho những tiến bộ quy trình trong tương lai. Đồng thời, nó có tính linh hoạt tuyệt vời, đáp ứng được yêu cầu sản xuất lớp phủ quy mô nhỏ cũng như nghiên cứu và phát triển quy trình.

    Đặc tính kỹ thuật của HD500

    Khắc ngang độc đáo

    √ Độ đồng nhất vượt trội trong quá trình khắc ngang

    √ Đặc tính khắc vượt trội và bảo trì thuận tiện

    Phun phủ từ HiPIMS tổng hợp

    √ Được trang bị nguồn DC + HiPIMS MS, máy đảm bảo tốc độ lắng đọng cao đồng thời đáp ứng yêu cầu năng lượng để lắng đọng các kim loại chịu nhiệt như Nb, BC, W, V, v.v., và có khả năng lắng đọng hầu hết mọi vật liệu.

    Nguồn đa hồ quang tối ưu hóa plasma

    √ Được trang bị 3 nhóm gồm 6 nguồn mục tiêu đa hồ quang hình tròn, cơ chế khởi tạo hồ quang ẩn đáng tin cậy và dễ bảo trì.

    √ Nó có thể dễ dàng thực hiện quá trình lắng đọng màng mỏng đa thành phần và đa lớp.

    √ Nguồn plasma đa hồ quang được tối ưu hóa đảm bảo bề mặt màng mỏng mịn hơn.

    √ Tỷ lệ sử dụng nguyên vật liệu mục tiêu cực kỳ cao.

    Nhiều nền tảng công nghệ lắng đọng

    √ Thực hiện nhiều công nghệ lắng đọng màng mỏng trên cùng một nền tảng, bao gồm DC MS + HiPIMS MS + mạ ion đa cung, và có thể triển khai các phương pháp phủ đơn, hỗn hợp và kết hợp trong cùng một mẻ.

    Thông số sản phẩm

    Tên Tham số
    Công nghệ phủ Công nghệ lớp phủ composite hoàn toàn mới
    Khắc axit Nguồn ion bên (dây tóc nóng)
    Nguồn đa hồ quang (số lượng) 6
    Số lượng cực âm magnetron 1
    Kích thước thiết bị (mm) Chiều dài 3400 * Chiều rộng 1600 * Chiều cao 2600
    Thể tích buồng (m³) 0,7
    Diện tích lớp phủ hiệu quả (mm) Ф410*400
    Nhiệt độ làm việc tối đa (℃) 700
    Sức chứa tối đa (số lượng cây) 5
    Tải lưỡi dao (APMT1135) 6000 chiếc
    Khả năng chịu tải của lưỡi dao (D4*50L) 1800 cái
    Trọng lượng tải tối đa (KG) 300
    Đường kính trục F130
    Thời gian xử lý AlTiN: 6~8 giờ
    HD500 - Thiết bị phủ ion composite hoàn toàn mới thuộc dòng HD (2)

    sendinquiry